High-purity (99.99% SiO₂) fused silica quartz glass plates engineered for semiconductor photomask and wafer manufacturing. These high-temperature-resistant, corrosion-resistant rectangular and square sheets are available in JGS1, JGS2, and JGS3 grades, with custom frosted plate options manufactured ...
Zeer zuivere 99,99% SiO₂-kwartsglasbuizen met een werktemperatuur van 1100 ℃ en een smeltpunt van 1732 ℃. Ideaal voor halfgeleider-, oven- en laboratoriumreactortoepassingen. Ondersteunt gratis monsters en aangepast ponsen/snijden. Duurzaam, transparant en efficiënt voor processen bij hoge temperaturen.
Hoogzuivere ovenbuizen van gesmolten silica (SiO₂>99,99%) met een weerstand van 1250°C en een nauwkeurigheid van ±0,5 mm. Aangepaste formaten tot 1 m diameter, 5 m lengte. Vuurgepolijst, geflensd, ideaal voor fotovoltaïsche en halfgeleidertoepassingen. OEM-services beschikbaar.
Hoogzuivere gesmolten kwartsplaten (SiO2>99,99%) met een hardheid van Mohs 6,5 en een werktemperatuur van 1200 °C voor optische UV-tests. Aangepaste formaten 0,3-100 mm, gepolijst tot 40/20 specificaties. Ideaal voor optische instrumenten en kijkglazen voor hoge temperaturen.
Gesmolten heldere kwartsbuis op maat met een zuiverheid van 99,99% SiO₂, werktemperatuur tot 1100 ℃, OD-bereik 10-10000 mm. Ideaal voor halfgeleider-, hogetemperatuurovens en laboratoriumtoepassingen. Gratis monsters beschikbaar bij pons-/snijverwerkingsdiensten.
Hoge zuiverheid 99,99% transparant gesmolten silicakwartsglasbuis voor halfgeleiderovens. Met een verwekingspunt van 1730 ℃, uitstekende zuurbestendigheid en aanpasbare maten. CE, RoHS, SGS gecertificeerd.
Nauwkeurig machinaal bewerkte geboorde kwartsplaten in JGS1/JGS2/JGS3-kwaliteiten voor halfgeleidertoepassingen. Beschikt over een SiO₂-zuiverheid van 99,99%, een werktemperatuur van 1100 ℃ en aangepaste pons-/snijservices. Verkrijgbaar in transparant gesmolten silica met gratis monsters en lage MOQ.
Professionele op maat gemaakte kwartsfles met een zuiverheid van 99,99% SiO₂, bestand tegen een werktemperatuur van 1100℃ en een smeltpunt van 1732℃. Ideaal voor laboratoriumonderzoek, halfgeleiderprocessen en universitaire onderwijstoepassingen.
Laat een bericht achter.
Wij bellen u snel terug!
Uw bericht moet tussen de 20 en 3.000 tekens lang zijn!
Controleer uw e-mail!
INZENDEN
Meer informatie zorgt voor betere communicatie.
Dhr
Dhr
Mevrouw
OK
Succesvol verzonden!
Wij bellen u snel terug!
OK
Laat een bericht achter.
Wij bellen u snel terug!
Uw bericht moet tussen de 20 en 3.000 tekens lang zijn!
Controleer uw e-mail!
INZENDEN
Laat uw juiste e-mailadres en gedetailleerde vereisten achter (20-3.000 tekens).