Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products
High Purity Fused Silica Tube 99.99% SiO₂, Clear Quartz Glass Tube for Tube Furnace
Zeer zuivere 99,99% SiO₂ heldere kwartsglasbuizen met een werktemperatuur van 1100 ℃ en een smeltpunt van 1732 ℃. Ideaal voor halfgeleiderovens en laboratoriumreactoren. Met aangepast ponsen/snijden, gratis monsters en een lage MOQ voor B2B-kopers.
High Transparency High Purity Quartz Glass Tube for Laboratory and Industrial Settings
99,99% zeer zuivere buizen van helder kwartsglas met een smeltpunt van 1732 ℃ en een werktemperatuur van 1100 ℃. Ideaal voor halfgeleiders, laboratoriumreactoren en hogetemperatuurovens. Ondersteunt gratis monsters, aangepast ponsen/snijden, OD 10-10.000 mm, lage MOQ en snelle levering binnen 15 dagen.
Precisie getrokken gesmolten siliciumdioxide capillaire buis hoge zuiverheid aangepaste ID OD kwarts capillaire voor laboratoriuminstrument
Zeer zuiver 99,99% gesmolten silica-capillair met een werktemperatuur van 1100 ℃ en aangepaste ID/OD. Ideaal voor halfgeleider- en laboratoriuminstrumenten. Ondersteunt gratis monsters en nauwkeurig snijden/ponsen voor B2B-export.
Hoge Temperatuur Industriële Processen en Wetenschappelijke Experimenten Transparante Kwartsglasbuis
Zeer zuivere 99,99% SiO₂-kwartsglasbuizen met een werktemperatuur van 1100 ℃ en een smeltpunt van 1732 ℃. Ideaal voor halfgeleider-, oven- en laboratoriumreactortoepassingen. Ondersteunt gratis monsters en aangepast ponsen/snijden. Duurzaam, transparant en efficiënt voor processen bij hoge temperaturen.
Hoge Temperatuurbestendigheid Aangepaste Diameter Gepolijste Melkachtige Kwartsglasbuis voor de Fotovoltaïsche Industrie
Zeer zuivere 99,99% SiO₂ melkachtige kwartsglasbuis met een werktemperatuur van 1100 ℃ en aanpasbare diameters van 10-10.000 mm. Ideaal voor fotovoltaïsche, halfgeleider- en laboratoriumtoepassingen. Biedt corrosiebestendigheid, gratis monsters en precisiesnij-/ponsdiensten.
Hoge Zuiverheid en Thermische Stabiliteit Ideale Kwartsglasbuis voor de Halfgeleiderindustrie
Zeer zuivere 99,99% SiO₂-kwartsglasbuis met een smeltpunt van 1732℃ en een werktemperatuur van 1100℃. Ideaal voor halfgeleider-, oven- en laboratoriumreactortoepassingen. Biedt op maat gemaakt ponsen/snijden, gratis monsters en een lage MOQ voor B2B-kopers.
Hoge Zuiverheid Diffusiekwartsbuis met Zijpoorten voor Industriële Sintering
Hoogzuivere JGS2-kwartsbuizen (SiO2>99,99%) met zijpoorten voor industrieel sinteren. Beschikt over een weerstand van 1250°C, een tolerantie van ±0,5 mm en een lengte tot 5000 mm. Biedt aangepaste afmetingen, OEM-services en uitstekende thermische stabiliteit voor veeleisende B2B-toepassingen.
Quartsglaasplaat Hoge Zuiverheid Kwarts Materiaal Hitte Hoge Temperatuur Kwarts Wafers
Fabriekslevering met hoge zuiverheid (SiO₂>99,99%) hittebestendige kwartsglasplaten met verwekingspunt 1683°C, werktemperatuur 1100-1200°C, hardheid Morse 6,5 en 92%+ lichttransmissie. Aangepaste vormen, dikte 0,3-100 mm, gepolijste oppervlakken en lage MOQ beschikbaar.
