logo
Not Found
Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products
Kwaliteit Custom High Purity 99.99% SiO2 Quartz Glass Plate Heat Resistant 1150℃ with High Light Transmittance >92% for Laboratory Semiconductor Fabriek VIDEO

Custom High Purity 99.99% SiO2 Quartz Glass Plate Heat Resistant 1150℃ with High Light Transmittance >92% for Laboratory Semiconductor

Op maat gemaakte ronde schijven van kwartsglas met een zuiverheid van 99,99% SiO2, >92% lichtdoorlatendheid en een werktemperatuur van 1150 ℃. Verkrijgbaar in diameter 1-800 mm, dikte 0,2-100 mm. Hittebestendig, corrosiebestendig en aanpasbaar voor halfgeleider-, laboratorium- en industriële toepassingen.
Kwaliteit High Purity 99.99% Transparent Fused Silica Quartz Glass Tube Custom Size For High Temperature Applications Fabriek VIDEO

High Purity 99.99% Transparent Fused Silica Quartz Glass Tube Custom Size For High Temperature Applications

Hoge zuiverheid 99,99% transparant gesmolten silicakwartsglasbuis voor halfgeleiderovens. Met een verwekingspunt van 1730 ℃, uitstekende zuurbestendigheid en aanpasbare maten. CE, RoHS, SGS gecertificeerd.
Kwaliteit Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Heat High Temperature Quartz Wafer Fabriek VIDEO

Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Heat High Temperature Quartz Wafer

Fabriekslevering met hoge zuiverheid (SiO₂>99,99%) hittebestendige kwartsglasplaten met verwekingspunt 1683°C, werktemperatuur 1100-1200°C, hardheid Morse 6,5 en 92%+ lichttransmissie. Aangepaste vormen, dikte 0,3-100 mm, gepolijste oppervlakken en lage MOQ beschikbaar.
Kwaliteit Hoge Zuiverheid Gesmolten Kwartsplaat met 92% Lichtdoorlatendheid, 1150°C Werktemperatuur en 2,2 g/cm³ Dichtheid Fabriek VIDEO

Hoge Zuiverheid Gesmolten Kwartsplaat met 92% Lichtdoorlatendheid, 1150°C Werktemperatuur en 2,2 g/cm³ Dichtheid

Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance ...
Kwaliteit hittebestendige JGS1 JGS2 JGS3 heldere gesmolten siliciumkwartsglasplaat voor halfgeleiderproductie Fabriek VIDEO

hittebestendige JGS1 JGS2 JGS3 heldere gesmolten siliciumkwartsglasplaat voor halfgeleiderproductie

High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Kwaliteit Round Clear Quartz Pipe High Temperature Resistant Standard Quartz Tube Fabriek VIDEO

Round Clear Quartz Pipe High Temperature Resistant Standard Quartz Tube

Ronde helderkwartspijp met een zuiverheid van 99,99% SiO₂, bestand tegen hoge temperaturen tot 1100℃, smeltpunt 1732℃. Aangepaste formaten met een buitendiameter van 10-10.000 mm voor halfgeleiderovens, hogetemperatuurovens en laboratoriumtoepassingen. Gratis monsters beschikbaar.
Kwaliteit high temperature resistant JGS1 JGS2 JGS3 Optical Fused Silica Sheet Fabriek VIDEO

high temperature resistant JGS1 JGS2 JGS3 Optical Fused Silica Sheet

High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Optical Fused Silica Sheet High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. Technical ...
Kwaliteit Hoogtransparant polijst gesmolten siliciumkwarts glasfles voor chemie laboratorium experiment Fabriek VIDEO

Hoogtransparant polijst gesmolten siliciumkwarts glasfles voor chemie laboratorium experiment

Hoge transparante polijsten gesmolten silica kwarts glazen fles voor chemisch laboratoriumexperiment. Beschikt over een SiO₂-gehalte van 99,99%, een smeltpunt van 1732 ℃, een werktemperatuur van 1100 ℃ en een hardheid van 6,6. Ideaal voor laboratoriumonderzoek, halfgeleiderprocessen en universitaire onderwijstoepassingen.