Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products
Fabrieksrecht 1150°C Warmtebestendige kwartsglasplaat met >92% lichtdoorlaatbaarheid en maatgrootte 0,5-100 mm
In de fabriek direct gepolijste kwartsplaten met een SiO2-zuiverheid van 99,99%, een werktemperatuur van 1150 ℃, >92% lichtdoorlatendheid en een dikte van 0,5-100 mm. Aangepaste formaten beschikbaar volgens JGS-normen, ideaal voor halfgeleider-, optica- en industriële toepassingen die een hoge hittebestendigheid en duurzaamheid vereisen.
Hoge Zuiverheid Gesmolten Silica Kwarts Glasbuis Hoge Temperatuurbestendig 1100℃ Aangepaste Maat 1mm-1000mm voor Laboratorium
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Hoge precisie, hoge afdichting, kwarts, schroefdraad, buis, kwartsglasfles voor laboratorium
Hoge precisie kwarts schroefdraadbuis met 99,99% SiO₂-gehalte, werktemperatuur tot 1100℃, smeltpunt 1732℃. Bestand tegen hoge temperaturen, corrosiebestendig, ideaal voor laboratoriumonderzoek, halfgeleider- en universitaire onderwijstoepassingen.
Hoogtransparant polijst gesmolten siliciumkwarts glasfles voor chemie laboratorium experiment
Hoge transparante polijsten gesmolten silica kwarts glazen fles voor chemisch laboratoriumexperiment. Beschikt over een SiO₂-gehalte van 99,99%, een smeltpunt van 1732 ℃, een werktemperatuur van 1100 ℃ en een hardheid van 6,6. Ideaal voor laboratoriumonderzoek, halfgeleiderprocessen en universitaire onderwijstoepassingen.
Fabrikant Hoge Zuiverheid Gesmolten Kwartsplaat Hoge Zuiverheid Op Maat Gemaakte Gesmolten Siliciumdioxide Kwartsplaat Kwartsglasplaat
Op maat gemaakte kwartsglasplaten met een zuiverheid van 99,99%, een werktemperatuur van 1100 °C, een lichtdoorlatendheid van 92% en een Morse 6,5-hardheid. Verkrijgbaar in aangepaste maten, vormen en gepolijste oppervlakken voor halfgeleider-, optische en industriële toepassingen.
Hoge temperatuurbestendige kwartsplaat voor halfgeleiderapparatuur
Kwartsplaten die bestand zijn tegen hoge temperaturen met een zuiverheid van 99,99%, een bedrijfstemperatuur van 1100 °C, een lichtdoorlatendheid van 92% en een tolerantie van ±0,02 mm. Aangepaste productie beschikbaar voor halfgeleider-, laboratorium- en industriële toepassingen.
Hoge hittebestendigheid 99,99% zuiverheid maatwerk grootte kwarts glasplaat gesmolten silicium kwarts schijf
Op maat gemaakte kwartsplaten van gesmolten silica met een zuiverheid van 99,99%, een werktemperatuur van 1100 °C, een lichtdoorlatendheid van 92% en een Morse 6,5-hardheid. Verkrijgbaar in verschillende vormen, maten en oppervlakteafwerkingen voor halfgeleider-, optische en industriële toepassingen.
Hoge temperatuurbestendige 1200℃ corrosiebestendige heldere kwartsbeker voor laboratoriumapparatuur
Bestand tegen hoge temperaturen, 1200 ℃, corrosiebestendigheid, heldere kwartsbeker voor laboratoriumapparatuur. Beschikt over een SiO₂-gehalte van 99,99%, een smeltpunt van 1732 ℃, een werktemperatuur van 1100 ℃ en een hardheid van 6,6. Ideaal voor laboratoriumonderzoek, halfgeleiderprocessen en universitaire onderwijstoepassingen.
