Quartzbuis van hun oude leverancier gegenereerde bubbels bij hoge temperatuur, besmette siliciumwafers en verminderde de opbrengst van het glurenproces-Anna

Project Achtergrond

Een fabrikant van halfgeleidermaterialen uit Duitsland kampte met een probleem: kwartsbuizen van hun oude leverancier genereerden bubbels onder hoge temperaturen, wat de siliciumwafers verontreinigde en de opbrengst van het gloeiproces verminderde. Ze hadden ultra-lage-OH hoogzuivere kwartscarriers nodig met strikte normen voor hydroxylwaarde, dimensionale tolerantie en hittebestendigheid, die langdurig stabiel konden functioneren in een vacuümomgeving van 1100°C.

Onze Oplossing

1. Gebruik van gesmolten silica met vacuüm dehydroxylatiebehandeling, hydroxylgehalte gecontroleerd onder 10 ppm, met een spectrale zuiverheidstestcertificaat bij elke batch.

2. CNC-polijstverwerking uit één stuk, dimensionale tolerantie ±0,02 mm, braamvrije randen om krassen op wafers te voorkomen.

3. Aangepaste dikwandige structuur om de weerstand tegen thermische schokken te verbeteren, geen scheuren na herhaaldelijk snel verwarmen en afkoelen.

Samenwerkingsresultaat

De eerste proefbestelling van 500 stuks voldeed aan alle tests. We hebben een jaarlijks raamcontract getekend met een maandelijkse stabiele bestelling van 3000 kwartsboten. De waferopbrengst van de klant steeg met 12%. Ze kochten later ook bijpassende kwartsflenzen en carrierbuizen, met een jaarlijkse verkoopvolume van 180.000 USD.