Hoogprecise kwartswafers voor halfgeleiders, optica en laboratoria-Mia

Als kernproducten van kwartsglas met een hoge zuiverheid, zijn kwartswafers, met hun extreem lage thermische uitzettingscoëfficiënt, uitstekende doorlaatbaarheid voor ultraviolet licht en sterke chemische corrosiebestendigheid, onmisbare basis precisie materialen in halfgeleiderlithografie, optische detectie, laboratorium spectrale analyse en laserapparatuur. Onlangs heeft de binnenlandse kwartsverwerkende industrie continu polijst-, afschuinings- en coatingprocessen geoptimaliseerd, en zijn hoogwaardige kwartswafelproducten versneld de wereldwijde exportmarkt binnengedrongen. De domesticatie en internationale expansie van kwarts materialen versnellen gelijktijdig.

Kwartswafers worden gemaakt van hoogzuiver gesmolten kwarts (SiO₂) en worden verwerkt via meerdere precieze procedures zoals snijden, slijpen, polijsten en reinigen. De producten kunnen worden aangepast aan de eisen van de klant voor dikte, tolerantie en vlakheid van het oppervlak, en worden geclassificeerd in categorieën zoals JGS1 ultraviolette kwartswafers en JGS2 infrarood kwartswafers, enz. Ze ondersteunen secundaire bewerkingen zoals AR anti-reflectiecoating en afschuining, en worden veel gebruikt in scenario's zoals observatievensters voor halfgeleiderapparatuur, kleurbases voor spectrometers, laserbeschermingslenzen en afdekkingen voor fotokatalytische reactiekamers. In tegenstelling tot gewoon glas, kunnen hoogzuivere kwartswafers temperaturen tot 1100°C weerstaan, worden ze niet gemakkelijk aangetast in omgevingen met sterk zuur en sterke alkali, hebben ze uitstekende doorlaatbaarheidsprestaties in het ultraviolette bandgebied, en zijn ze de voorkeursubstraten voor geavanceerd wetenschappelijk onderzoek en industriële toepassingen.

De wereldwijde vraag naar optische apparatuur gerelateerd aan halfgeleiders en AI-rekenkracht blijft stijgen, wat leidt tot een gestage groei in de vraag naar hoogwaardige kwartswafers.