| Productnaam | Precisieglas het Machinaal bewerken |
|---|---|
| Materiaal | SiO2 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Het werk temperatuur | 1100℃ |
| Oppervlaktekwaliteit | 20/40 of 40/60 |
| Materiaal | SiO2 |
|---|---|
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Het werk temperatuur | 1100℃ |
| UVoverbrenging | 80% |
| Sleutelwoord | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
|---|---|
| Naam | procesglas lab aangepast kwartsinstrument |
| Materiaal | gesmolten silicium |
| Werktemperatuur | 1100℃ |
| Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
| Materiaal | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Dichtheid | 2.2 (g/cm3) |
| Lichte overbrenging | >92% |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Het werk temperatuur | 1100℃ |
| Productnaam | De Plaat van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | Sio2 |
| Het werken Temparature | 1200℃ |
| Smeltingspunt | 1850℃ |
| Vorm | Vierkant/Ronde/Om het even welke vorm |
| Type | Dist Quartz -plaat |
|---|---|
| Sollicitatie | Halfgeleider, optisch |
| Dikte | 0,5-100 mm |
| Vorm | Ronde |
| Verwerkingsservice | Ponsen, snijden |
| Type | Dist Quartz -plaat |
|---|---|
| Applicatie | Halfgeleider, optisch |
| Dikte | 0,5-100 mm |
| Vorm | Ronde |
| Verwerkingsdienst | Ponsen, snijden |
| Type | Dist Quartz -plaat |
|---|---|
| Applicatie | Halfgeleider, optisch |
| Dikte | 0,5-100 mm |
| Vorm | Ronde |
| Verwerkingsdienst | Ponsen, snijden |
| Type | Dist Quartz -plaat |
|---|---|
| Sollicitatie | Halfgeleider, optisch |
| Dikte | 0,5-100 mm |
| Vorm | Ronde |
| Verwerkingsdienst | Ponsen, snijden |
| Type | Dist Quartz -plaat |
|---|---|
| Sollicitatie | Halfgeleider, optisch |
| Dikte | 0,5-100 mm |
| Vorm | Ronde |
| Verwerkingsdienst | Ponsen, snijden |