| Sleutelwoord | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
|---|---|
| Naam | procesglas lab aangepast kwartsinstrument |
| Materiaal | gesmolten silicium |
| Werktemperatuur | 1100℃ |
| Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
| Productnaam | de staaf van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | SIO2>99.99% |
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Lichte transimittance | 92% |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Productnaam | de staaf van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | SIO2>99.99% |
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Lichte transimittance | 92% |
| Hardheid | morse 6,5 |
| Naam van het product | de staaf van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | SIO2>99.99% |
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Lichte Transimittance | 92% |
| hardheid | morse 6,5 |
| Productnaam | KwartsReageerbuis |
|---|---|
| Materiaal | Gesmolten Kwarts |
| dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Het werk Temperatuur | 1100℃ |
| Smeltingspunt | 1750℃ |
| Productnaam | KwartsReageerbuis |
|---|---|
| Materiaal | Gesmolten Kwarts |
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Het werk temperatuur | 1100℃ |
| Smeltingspunt | 1750℃ |
| Materiaal | SIO2>99.99% |
|---|---|
| dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Smeltingspunt | 1750-1850℃ |
| Het werk Temperatuur | 1110℃ |
| Productnaam | De Plaat van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | Sio2 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Het werk temperatuur | 1100℃ |
| Oppervlaktekwaliteit | 20/40 of 40/60 |
| Naam | XRD-KWARTSplaat |
|---|---|
| Type | Duidelijke Kwartsplaat |
| Sollicitatie | Chemisch |
| dikte | 0.5100mm |
| Vorm geven aan | Cirkelvorm |
| Naam van het product | de staaf van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | SIO2>99.99% |
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Lichte Transimittance | 92% |
| hardheid | morse 6,5 |
