| Materiaal | SiO2 |
|---|---|
| Het werken Temparature | 1200℃ |
| Smeltingspunt | 1850℃ |
| vorm | Vierkant/Ronde/Om het even welke vorm |
| Dikte | 1mm50mm |
| SiO2 | 99.99% |
|---|---|
| Het werken Temparature | 1200℃ |
| Smeltingspunt | 1750-1850℃ |
| Gebruik | Laboratorium, medische biologie, |
| Kleur | Transparant |
| Type | Duidelijke Kwartsplaat |
|---|---|
| Toepassing | Optische halfgeleider, |
| Dikte | 0.5100mm |
| Vorm | Vierkant |
| De verwerkingsdienst | Het buigen, het Lassen, Ponsen, het oppoetsen |
| Kleur | Duidelijk/transparant |
|---|---|
| Materiaal | SiO2> 99,99% |
| Materiaaltype | JGS1/JGS2/JGS3 |
| Hardheid | Morse 6,6 |
| Dikte | 2.2G/cm3 |
| Materiaal | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Smeltingspunt | 1750-1850℃ |
| Het werk temperatuur | 1110℃ |
| Materiaal | SiO2 |
|---|---|
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Het werk temperatuur | 1100℃ |
| Oppervlaktekwaliteit | 20/40 of 40/60 |
| Dieletricsterkte | 250~400Kv/cm |
| Materiaal | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Smeltingspunt | 1750-1850℃ |
| Het werk temperatuur | 1110℃ |
| materiaal | SIO2>99.99% |
|---|---|
| dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Hardheid | Morse 6,5 |
| Smeltingspunt | 1750-1850℃ |
| Het werk Temperatuur | 1110℃ |
| Productnaam | De plaat van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | 99.99% |
| Lichte Overbrenging | 92% |
| Dichtheid | 2.2g/cm3 |
| Het werken Temparature | 1100℃ |
| Productnaam | De Plaat van het kwartsglas |
|---|---|
| Materiaal | SIO2>99.999% |
| Dichtheid | 2.2 (g/cm3) |
| Lichte overbrenging | >92% |
| Hardheid | Morse 6,5 |