Productnaam | Kwarts buisflens |
---|---|
Materiaal | SIO2 |
Dichtheid | 2.2g/cm3 |
Hardheid | Morse 6,5 |
Werktemperatuur | 1100℃ |
Naam van het product | de staaf van het kwartsglas |
---|---|
Materiaal | SIO2>99.99% |
Dichtheid | 2.2g/cm3 |
Lichte Transimittance | 92% |
hardheid | morse 6,5 |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Sleutelwoord | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Naam | procesglas lab aangepast kwartsinstrument |
Materiaal | gesmolten silicium |
Werktemperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Productnaam | KwartsReageerbuis |
---|---|
Materiaal | Gesmolten Kwarts |
Dichtheid | 2.2g/cm3 |
Het werk temperatuur | 1100℃ |
Smeltingspunt | 1750℃ |
Productnaam | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Materiaal | gesmolten silicium |
Het werk Temperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Hardheid | morse 6,5 |
Type | Duidelijke Kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5100mm |
Vorm | Vierkant |
De verwerkingsdienst | Het buigen, het Lassen, Ponsen, het oppoetsen |