Productnaam | Rond Kwartsglas |
---|---|
Materiaal | SIO2>99.99% |
Dichtheid | 2.2g/cm3 |
Hardheid | Morse 6,5 |
Het werken Temparature | 1150℃ |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Sleutelwoord | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Naam | procesglas lab aangepast kwartsinstrument |
Materiaal | gesmolten silicium |
Werktemperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |
Sleutelwoord | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Naam | procesglas lab aangepast kwartsinstrument |
Materiaal | gesmolten silicium |
Werktemperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
materiaal | gesmolten silicium |
---|---|
Het werk Temperatuur | 1250℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Hardheid | Morse 6,5 |
toepassing | Laboratoriumtest |
naam | De Schijf van het kwartsglas |
---|---|
Lichte overbrenging | >92% |
dichtheid | 2.2g/cm3 |
Het werken Temparature | 1100℃ |
Hardheid | Morse 6,5 |
Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Stoten, snijden |