Materiaal | SIO2>99,99% |
---|---|
Dichtheid | 2,2 g/cm3 |
Hardness | Morse 6.5 |
Smeltingspunt | 1750-1850 ℃ |
Werktemperatuur | 1110℃ |
Productnaam | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Materiaal | gesmolten silicium |
Het werk temperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Hardheid | morse 6,5 |
Materiaal | SIO2>99.9% |
---|---|
Dichtheid | 2.2g/cm3 |
Het werk Temperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan Keramiek, 150 keer dan roestvrij staal |
Smeltingspunt | 1750℃ |
Productnaam | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Materiaal | gesmolten silicium |
Het werk temperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Hardheid | Morse 6,5 |
Productnaam | Het Glaswerk van het wetenschapslaboratorium |
---|---|
Materiaal | gesmolten silicium |
Het werk temperatuur | 1100℃ |
Zure tolerantie | 30 keer dan keramiek |
Hardheid | Morse 6,5 |
Type | Heldere kwartsplaat |
---|---|
Sollicitatie | Halfgeleider, optisch |
Dikte | 0,5-100 mm |
Vorm geven aan | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Buigen, lassen, ponsen, snijden, polijsten |
Type | Duidelijke Kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5100mm |
Vorm | Vierkant |
De verwerkingsdienst | Het buigen, het Lassen, Ponsen, Knipsel, het oppoetsen |
Type | Duidelijke Kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5100mm |
Vorm | Vierkant |
De verwerkingsdienst | Het buigen, het Lassen, Ponsen, Knipsel, het oppoetsen |
Materiaal | SIO2 |
---|---|
Gezamenlijk | 14mm/18mm Mannetje |
Buishoek | 90° |
Het werken Temparature | 1100℃ |
Kleur | Transparant |
Type | Doorzichtige kwartsplaat |
---|---|
Toepassing | Optische halfgeleider, |
Dikte | 0.5-100 mm |
Vorm | Vierkant |
Verwerkingsdienst | Buigwerk, lassen, steken, polijsten |