Classificatie en gebruik van kwartsglasplaat

Classificatie en Gebruik van KwartsglasPlaat

‌

Kwartsglasplaten, bekend om hun hoge thermische stabiliteit en optische helderheid, worden geclassificeerd op basis van materiaalzuiverheid en verwerkingstechnieken, waardoor diverse industriële toepassingen mogelijk zijn

Hieronder staan hun belangrijkste categorieën en toepassingen:

‌1. Materiaalclassificatie

‌

‌Gesmolten Silica Platen‌: Samengesteld uit ≥99,99% siliciumdioxide, bieden deze platen uitzonderlijke UV-transparantie en weerstand tegen thermische schokken, waardoor ze ideaal zijn voor semiconductor lithografie en lasersystemen

‌Borosilicaat Kwarts Platen‌: Met toegevoegd booroxide bieden deze verbeterde thermische stabiliteit tegen lagere kosten, geschikt voor laboratoriumapparatuur en industriële verwarmingstoepassingen

‌Oxyhalide Telluriet Platen‌: Gespecialiseerd voor fotonische apparaten, maken deze geavanceerde optische filtering en luminescente technologieën mogelijk

• Industriële Toepassingen

‌

‌Halfgeleiderproductie‌: Hoogzuivere kwartsplaten dienen als substraten voor waferverwerking en diffusiekamers, waardoor contaminatievrije omgevingen worden gegarandeerd. Gebruikt als substraten voor waferverwerking en diffusiekamers, vereist ultra-lage metaalonzuiverheden (<0,5 ppm) en thermische stabiliteit tot 1200°C

‌Hernieuwbare Energie‌: Gebruikt in zonnethermische ontvangers, zijn deze platen bestand tegen extreme temperaturen met behoud van optische efficiëntie

‌Nucleaire Technologie‌: Getest op schokbestendigheid tot 34,5 MPa, worden kwartsplaten gebruikt in reactorobservatiesystemen om het brandstofgedrag onder hoge druk te monitoren.

‌Opto-elektronica‌: UV-transparante platen maken precieze lichttransmissie in micro-optische apparaten mogelijk, waarbij JGS1-kwaliteit materiaal >80% transmissie bereikt in bereiken van 170-2500 nm

De markt voor kwartsglasplaten groeit sterk, aangedreven door ontwikkelingen in de halfgeleiderproductie en fotonische technologieën. Hoogzuivere kwartsplaten (≥99,99% SiO₂) zijn cruciaal voor extreme ultraviolet (EUV) lithografie en lasersystemen